标题一种使用分子层沉积制备晶圆级干式光刻胶的方法
[标]当前申请(专利权)人南开大学
申请日2024年7月15日
申请号CN202410941055.6
公开(公告)日2024年11月1日
授权日-
法律状态/事件-
专利类型发明申请
发明人罗锋 | 王兴坤 | 单一洋
受理局中国
当前申请人(专利权)地址300350 天津市津南区海河教育园同砚路38号 (天津,天津,津南区)
IPC分类号C23C16/455 | C23C16/06 | G03F7/16
国民经济行业分类号C3569 | C3563 | C3562 | C3099
代理机构天津耀达律师事务所
代理人邵洪军
