标题一种可控的碳化硅表面均匀厚度薄膜制备装置
[标]当前申请(专利权)人南开大学
申请日2021年12月29日
申请号CN202111625131.5
公开(公告)日2024年11月19日
授权日2024年11月19日
法律状态/事件授权
专利类型授权发明
发明人宋峰 | 赵泽家 | 刘鑫 | 田野 | 刘丽飒 | 冯鸣
受理局中国
当前申请人(专利权)地址300071 天津市南开区卫津路94号物理科学学院第五教学楼318 (天津,天津,南开区)
IPC分类号B05B9/04 | B05B12/14 | B05B12/12 | B05B12/08 | B05B16/20
国民经济行业分类号C3466
代理机构-
代理人-
