标题一种基于分子层沉积技术制备晶圆级纳米压印光刻胶的方法
[标]当前申请(专利权)人南开大学
申请日2025年3月6日
申请号CN202510260754.9
公开(公告)日2025年5月27日
专利类型发明申请
发明人罗锋 | 张一弛 | 单一洋
受理局中国
当前申请人(专利权)地址300350 天津市津南区海河教育园同砚路38号 (天津,天津,津南区)
IPC分类号G03F7/00 | G03F7/004 | C23C16/02 | C23C16/06 | C23C16/52
国民经济行业分类号C3569 | C4330 | C3479 | C2665 | C2664 | C3563 | C3562 | C3474 | C3473 | C3472 | C3471 | O8131
代理机构天津佳盟知识产权代理有限公司
代理人李淑惠
