标题一种使用分子层沉积制备晶圆级铝基-烯二醇干式光刻胶的方法
[标]当前申请(专利权)人南开大学
申请日2023年11月20日
申请号CN202311544565.1
公开(公告)日2025年9月16日
专利类型授权发明
发明人王兴坤 | 罗锋
受理局中国
当前申请人(专利权)地址300350 天津市津南区海河教育园同砚路38号 (天津,天津,津南区)
IPC分类号C23C16/22 | C23C16/52
国民经济行业分类号C3569 | C3563 | C3562 | C3099
代理机构天津耀达律师事务所
代理人邵洪军
