一种微纳层级结构聚偏氟乙烯膜的电场辅助模板制备方法

专利详情

标题一种微纳层级结构聚偏氟乙烯膜的电场辅助模板制备方法

[标]当前申请(专利权)人南开大学

申请日2026年3月11日

申请号CN202610292315.0

公开(公告)日2026年6月26日

公开(公告)号CN122273320A

专利类型发明申请

发明人郭晓燕 | 杨敖宇 | 陶怡亦

受理局中国

当前申请人(专利权)地址300071 天津市南开区卫津路94号 (天津,天津,南开区)

IPC分类号B01D67/00 | B01D71/34 | C02F3/12

国民经济行业分类号C2666

代理机构-

代理人-

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